抛光液抛光综合了化学和机械抛光的优势：

单纯的化学抛光：抛光速率较快、表面光洁度高、损伤低，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；

单纯的机械抛光：表面一致性好、表面平整度和平行度高，但表面光洁度差、损伤层深。抛光液抛光可以获得较为完美的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高，是目前能够实现全局平面化的有效方法。

抛光膏和抛光粉的差别在于：抛光膏除开本身含有该粒度的优质抛光粉作为磨料以外，还含有湿润剂、表面活性剂、分散稳定剂和调整剂等配置而成。抛光膏集物理和化学原理于一身，效能比抛光粉相对更优异。

抛光膏和抛光液的差别在于：抛光膏是粘度类似于牙膏状的膏体，而抛光液是粘度类似于植物油状的液体。抛光液相比抛光膏的流动性更好！

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液）、氧化铝抛光液、氧化铈抛光液、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铬抛光液和碳化硅抛光液等几类。

氧化铈抛光液的特性如下:

我司氧化铈抛光液是以微米或纳米级氧化铈为磨料，再配以湿润剂、表面活性剂、分散稳定剂和调整剂生产的一种研磨抛光材料。该研磨液具有悬浮性好、分散性好、粒度分布均匀、硬度适中、抛光后容易清洗等特点。

氧化铈抛光液广泛应用于高精密光学仪器、光学镜头、微晶玻璃基板、晶体表面、玻璃表面等方面的精密抛光。

产品粒度有W0.05、W0.5、W1.0、W2.0、W3.0等。

产品包装：200毫升/瓶和500毫升/瓶。