据专业人士表示：以溅射的方法进行真空镀膜，由于其镀膜方式的不同，同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的，虽然肉眼无法看出来，但确实拥有一定的优势。 膜厚稳定性好，由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系，电流越高，溅射效率越大，相同时间内，所镀膜层的厚度相对就大了，因为只要把电流数值控制好，需要镀多厚，或者多薄的膜层都可以了，当然这个厚度是在可允许的范围内，而且控制好电流，无论重复镀多少次，膜层厚度都不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。

      光学真空镀膜机主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜两部分组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。光学真空镀膜设备在防止油污染和缩短工作周期等方面具有卓越的性能。

　　光学真空镀膜机工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度，材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大，蒸发出来的蒸汽分子向四处直射，碰到基片就沉积在基片表面形成腊层。

磁控溅射（EMI）电磁屏蔽膜，应用于手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、视听电子、摇控器、导航和医用工具等，全自动控制，配置大功率磁控电源，双靶交替使用，恒流输出。独特的工件架合理设计，公自转，产量大、良品率高，利用石英晶振膜厚仪测量膜层厚度，可镀制精确的膜层厚度。PLC人机界面自动控制系统，随时可修改镀膜参数。