真空镀膜设备磁控溅射的使用范围很广, 可制备成靶材的各种材料均可以此方法制备成薄膜材料, 包括各种金属、半导体、铁磁材料、绝缘的氧化物、陶瓷、聚合物等物质。在适当的条件下, 可采用共溅方式沉积所需组分的混合物薄膜; 也可以在溅射的放电气氛中加入氧、氮或其它活性气体, 可反应沉积形成靶材物质与气体分子的化合物薄膜;它的优点是对靶材的导电性没有要求。反应溅射既可以是直流反应溅射, 也可以是射频反应溅射。共溅射是使用两个由不同材料制备的阴极靶, 同时进行溅射, 通过调节阴极靶上溅射放电电流, 来改变薄膜的成分。还可以在一个主要的靶材的表面, 固定或粘贴其它材料薄片, 实现共溅。

蒸发磁控溅射镀膜机将磁控溅射技术和蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。

该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。该设备配置了等离子体处理装置，高效磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好；该机实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。

PVD真空镀膜设备主要是利用真空环境实现对基材的覆膜的机器，佛欣真空是一家生产制造PVD真空镀膜设备的厂家，设备具有以下优点：

1.具有出色的附着力。

2.高抗氧化性，高硬度，高抗磨损性。

3.大批量生成。

4.不限制产品的形状、大小。