产品信息

• 简介：通常将硅片放置在水平管式炉中生长热氧化层。温度范围控制在900到1200摄氏度，使用湿法或者干法的生长方法。
• 相对于CVD法沉积的氧化层，它具有较高的均匀性和更高的介电强度。这是一个极好的作为绝缘体的介电层。

• 应用范围：

   1.刻蚀率测定

   2.金属打线测试

   3.金属晶圆

   4.电性绝缘层

                   氧化厚度颜色参考图

 产品图片

 销售网络

• 销售特点：全球为点，全国为面，点面结合。
• 全国：以北京为中心，网络遍及全国两岸三地的高校、科研院所和军工企业。
• 全球：出口至美国、日本、印度等海外国家。

 企业声明

      远方的你，是注重产品品质的你，正如精致的我，经营的高质产品。市场良莠不齐，价格林林总总。只有我们低头做自己的产品。我们专注半导体领域的灵魂产品，风雨十年，不卑不亢。我们不拼低价，不参水分，我们秉承初心，良心生产，诚信经营。 

       北京特博万德力求做到最好，从产品质量，到服务态度到发货仔细程度，都凝聚了特博人细致认真的精神。发货时，我们将货与发票同层包装，用气泡垫和缓冲垫将其包裹严实，四周也放置缓冲物，杜绝易碎、碰撞等不安全因素。

      我们想客户所想，予客户便捷，选择北京特博，无售后之忧。

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