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化学镀镍的设备

       化学镀镍设备是实现化学镀镍规范化工业生产的重要因素之一，其生产线包括配电、供热、传质、工件夹持、物流方式。设备的设计、制造或选择，原则上同其他湿法表面处理工艺相似。化学镀镍设备的不同之处主要集中于施镀槽及相关设备等，如渡槽、加热、搅拌、供水、循环过滤，补充调整和自动控制等部分组成。

      由于化学镀镍层具有优秀的均匀性、硬度、耐磨和耐蚀性等综合物理化学性能，该项技术已经得到广泛应用，几乎难以找到一个工业不采用化学镀镍技术。据报道，化学镀镍在各个工业中应用的比例大致如下:航空航天工业:9%，汽车工业:5%，电子计算机工业:15%，食品工业:5%，机械工业:15%，核工业:2%，石油工业:10%，塑料工业:5%，电力输送工业:3%，印刷工业:3%，泵制造业:5%，阀门制造业:17%，其他:6%。世界工业化国家的化学镀镍的应用经历了80年代空前的发展，平均年净增速率高达10%~15%;预计化学镀镍的应用将会持续发展，平均年净值速率将降低至6%左右，而进入发展成熟期。在经济蓬勃发展的东亚和东南地区，包括中国在内，化学镀应用正在上升阶段，预期仍将保持空前的高速发展。

      化学镀又称为无电解镀(Electroless plating)，也可以称为自催化电镀(Autocatalytic plating)[1]。具体过程是指:在一定条件下，水溶液中的金属离子被还原剂还原，并且沉淀到固态基体表面上的过程。ASTM B374(ASTM，美国材料与试验协会)中定义为Autocatalytic plating is 'deposition of a metallic coating by a controlled chemical reduction that is catalyzed by the metal or alloy being deposited'。这一过程与置换镀不同，其镀层是可以不断增厚的[2]，且施镀金属本身也具有催化能力。

       化学镀中发展最快的一种。镀液一般以硫酸镍、乙酸镍等为主盐，次亚磷酸盐、硼氢化钠、硼烷、肼等为还原剂，再添加各种助剂。在90℃的酸性溶液或接近常温的中性溶液、碱性溶液中进行作业。以使用还原剂的不同分为化学镀镍-磷、化学镀镍-硼两大类。镀层在均匀性、耐蚀性、硬度、可焊性、磁性、装饰性上都显示出优越性。

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