光栅基础

　　光栅作为重要的分光器件，他的选择与性能直接影响整个系统性能。为更好协助用户选择，在此做一扼要介绍。

　　光栅分为刻划光栅、复制光栅、全息光栅等。刻划光栅是用钻石刻刀在涂有金属的表面上机械刻划而成；复制光栅是用母光栅复制而成。典型刻划光栅和复制光栅的刻槽是三角形。全息光栅是由激光干涉条纹光刻而成。全息通常包括正弦刻槽。刻划光栅具有衍射效率高的特点，全息光栅光谱范围广，杂散光低，且可作到高光谱分辨率。

光栅方程

　　反射式衍射光栅是在衬底上周期地刻划很多微细的刻槽，一系列平行刻槽的间隔与波长相当，光栅表面涂上一层高反射率金属膜。光栅沟槽表面反射的辐射相互作用产生衍射和干涉。对某波长，在大多数方向消失，只在一定的有限方向出现，这些方向确定了衍射级次。

直读光谱仪厂家日常维护

为保证直读光谱仪系统发挥正常功能，特zhi定本规范，规定了直读光谱仪的作业环境、作业过程、维护保养等具体细节。

直读光谱仪作业环境要求

直读光谱仪作业环境清洁、无尘，尽可能避免震动。

作业环境温度：+18℃―+28℃；短期温度变化率不要超过±5℃/小时。

作业环境最jia湿度：20～80％相对湿度。

工作电压稳定：230±10%，频率：50/60HZ

在氩气瓶与铜管之间还需一块压力表，用于减压。输入压力范围应在0～2.5MPA。

氩气纯度必须≥99.995%；O2≤5ppm  N≤20ppm   H2O≤5ppm  CO2+CH4≤5ppm。  

控制试样

　　 在实际工作中，由于试样和标准样品的冶金过程和某些物理状态的差异，常常使工作曲线发生变化，通常标准样品多为锻造和轧制状态，而日常分析为浇铸状态。为了避免试样因冶金状态变化给分析结果带影响，常常应使用一个与分析试样冶金状态和物理状态都一样的控样，来控制分析结果，控样的元素含量应位于工作曲线含量范围内，并与分析试样的含量越接近越好。同时，控制样品的元素含量应当准确可靠，成份分布均匀，外观无气孔、砂眼、裂纹等物理缺陷。