本公司抵款回来南光镀镆机9台 莱宝镀镆机4台  双枪 晶控 光控 详情请联系我

用于半导体组件及光学件生产和研究是比较理想的设备,在极限真空,防止油污和缩短工作等方面都具有较好的性能,它用于单层光学薄膜和生产也是比较理想的设备.  一.工作条件  1.电源总功率约30KW,220V/380V,50HZ  线制为三相四线制.2.接地电阻小于4欧,接地导线截面积大于等于10mm2  3.安装环境必须具备良好通风条件.4.水流约1.5L/min.5.气压:0.5MPa  二.主要技术性能:(一)真空控制系统 1.半自动/手动旋钮置手动可按常规进行各种泵,阀的启动与停止操作. 详情请联系我 壹叁叁捌零壹玖叁肆玖零 杨小姐！

（1）极限真空：3×10-4Pa

（2）恢复真空时间：大气至4×10-3Pa≤15min

（3）采用KT-630型扩散泵（18000L／s）两台（带移相温度控制），HGL－150型滑阀泵一台＋ZJP-600罗茨泵一台，维持泵2X－30型机械泵（30L／s）一台；配备防湍流装置

（4）真空程序有自动和手动两种模式。日本欧姆龙型PLC控制所有泵阀动作；高阀、低阀、预阀，到位信号送入PLC控制信号；PLC程序带故障报警功能，如气压、水流、机械泵等保护及报警；12英寸触摸屏在线监控PLC各种输入及输出信号。

（5）工件转动：采用磁流体密封转动装置，其它地方采用传统的橡胶圈密封

（6）工件烘烤：桶状上烘烤，三点控温，加热器采用管状加热器，配温控仪

（7）E型电子枪两支，枪功率10KW／支；束偏转角270°；阳极电压为8KV、10KV；束流：0－1000mA可调；具有X、Y方向扫描，扫描波形有三角波、正弦波、矩形波可选择，电子枪主体有屏蔽罩，电子枪输出功率稳定。

（8）配备美国MAXTEK公司的MDC360C型石英晶体膜厚仪。

（9）Φ16CM的离子源