广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业，以生产信息存储记录材料为起点，顺延产业技术发展的方向，深耕产业技术应用的潜力，经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料（贵金属镀膜技术）、金属薄膜靶材（真空镀膜靶材技术）信息存储记录材料（激光读写光盘生产技术）、工程塑料（PC再生造粒及改性技术）、触控显示材料（手机、平板触摸屏材料）、石墨烯材料（导电、散热）、UV化工材料（UV油墨、UV电子胶粘剂）这七大核心技术为中心的产业集团。
1、ITO特点
掺锡氧化铟材料是一种N型半导体材料，由于具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和化学稳定性，因此它是触摸屏、液晶显示器、等离子显示器、电致发光显示器以及其它电子仪表的透明电极最常用的材料。
2、触摸屏ITO现有几大问题
它有两个问题：一是生产中不镀减反膜难以提高透过率；二是呈淡黄色，要改善就要镀过渡层；三是难以在保持透过率的时候同时降低方块电阻值；四是过度弯曲时会存在破裂危险，ITO会断裂。
针对上面几大问题，触摸屏ITO的最1新1技术主要是指结晶化技术和高透技术。
3、结晶ITO膜的技术
ITO膜的结晶化需要高的基底温度。一般PET结晶都在180度左右，玻璃的ITO是300度；二是添加促进结晶的镀层，是氧化硅和氧化钇。三是采用前处理和后处理，可以在高温中间高温镀膜，或者在镀膜之后进行后结晶。靶材也非常关键，要采用容易结晶的靶材，一般都是93：7或者95：5。
4、高透ITO
高透ITO主要有单层减反射膜和多层减反膜。单层减反膜主要是氧化硅、氧化铌、氧化钇和氧化钛等等。多层减反膜有高低不同的折射率和多种材料相互结合的多种减反膜，其中三层的减反膜主要是氧化钇、氧化硅加上ITO，中间二氧化硅的透过率和上下的折射率有一定的供给关系和匹配关系。
广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业，以生产信息存储记录材料为起点，顺延产业技术发展的方向，深耕产业技术应用的潜力，经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料（贵金属镀膜技术）、金属薄膜靶材（真空镀膜靶材技术）信息存储记录材料（激光读写光盘生产技术）、工程塑料（PC再生造粒及改性技术）、触控显示材料（手机、平板触摸屏材料）、石墨烯材料（导电、散热）、UV化工材料（UV油墨、UV电子胶粘剂）这七大核心技术为中心的产业集团。
溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，硼化物等。
广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业，以生产信息存储记录材料为起点，顺延产业技术发展的方向，深耕产业技术应用的潜力，经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料（贵金属镀膜技术）、金属薄膜靶材（真空镀膜靶材技术）信息存储记录材料（激光读写光盘生产技术）、工程塑料（PC再生造粒及改性技术）、触控显示材料（手机、平板触摸屏材料）、石墨烯材料（导电、散热）、UV化工材料（UV油墨、UV电子胶粘剂）这七大核心技术为中心的产业集团。
磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永1久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
