真空电镀流程

入PVD厂→检验→清洗→擦拭→上挂具→烘烤→（150°C×30分钟+）→进炉PVD（抽真空、升温→离子轰击清洗→镀膜）→降温至100°C以下→出炉→下挂→品检→装袋→回厂

pvd真空镀膜，离子镀膜膜层的均与性主要包括成分均匀、组织结构均匀和膜厚均匀，最终保证膜层各种性能均匀。材料的性能由其诚分与组织结构所决定，膜层必须获得所设计的膜系成分和组织结构均匀一致。薄膜是二维材料，膜的厚度是重要的材料技术指标。比如薄膜的干涉显色，耐腐蚀性和耐磨性都与膜厚密切相关，膜厚均匀保证薄膜相关的性能均匀。

主要意思是指在真空条件下，在真空状态注入氩气，氩气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。PVD镀膜技术主要分为：真空离子镀膜，真空溅射镀，真空离子镀膜。我们经常说的PVD镀膜就是指真空离子镀膜，近几年来，真空离子镀膜技术发展是最快的，它已经成为当今社会先进的表面处理方式之一。PVD镀出的膜层硬度高，耐磨性强，耐腐蚀性好，化学性稳定，而且膜层寿命长。

问：请问什么是PVD镀膜？ 什么是PVD镀膜机？

答： PVD(物理的气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代先进的表面处理方法之一。

我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。