CMSD2000系列颜料研磨设备可以取代砂磨机、球磨机
CMSD2000系列颜料研磨机具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米,可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。三级连续管线式高剪切分散机,主要应用于处理大量乳液和生成超细悬乳液。颜料研磨机适用于颗粒状粉体研磨分散。
颜料研磨机的研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。锥体磨适用于片状结构粉体研磨分散。
CMSD2000颜料研磨机优势:
1,同直径转子转速相较其它厂家2900转左右高出约三倍:
2,IKN定转子的间距可做到0.2-0.3mm,齿缝间距1mm,胶体磨结构独特。
3,德国进口双端面机械密封拥有独特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命,压力系统保证机械密封不受损坏。
4,中试型乳化分散机与大型工业管线式量产机型配置基本相同,对于生产放大可以平稳过渡。
选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |