半导体蚀刻设备用静电吸盘，ESC静电吸盘，行业也称之为CVD静电吸盘，靠静电荷的同性相吸来固定硅片，用于蚀刻晶圆。

一、6寸ESC静电吸盘

       1、盘面尺寸：6”

   Ceramic Insert Dimension:  6”

        2、检测标准Test Specification   

   空盘≧250PF

   Capacitance (Without wafer) ≧250PF

   加片后≧500PF

   Capacitance (With wafer)   ≧500PF

       3、实际检测数据Actual Test Data

           空盘≧280PF

Capacitance (Without wafer)≧280PF

加片后≧517PF

Capacitance (With wafer) ≧517PF

一、8寸ESC静电吸盘   

       1、盘面尺寸：8”

   Ceramic Insert Dimension:  8”

        2、检测标准Test Specification   

   空盘≧350PF

   Capacitance (Without wafer) ≧350PF

   加片后≧700PF

   Capacitance (With wafer)   ≧700PF

       3、实际检测数据Actual Test Data

           空盘≧361PF

Capacitance (Without wafer)≧361PF

加片后≧746PF

Capacitance (With wafer) ≧746PF