Leica EM TIC 3X徕卡三离子束切割仪-全新版本速度翻倍:
Leica EM TIC 3X 徕卡三离子束切割仪,新版比前代产品切割速度提高一倍,实用性得到大幅提升。离子束切割是通过离子枪激发获得的离子束,以垂直于样品侧面纵向轰击样品,可获得高质量无应力“切割”截面或抛光面。几乎适用于任何材质样品,尤其对于硬的、软的、多孔的、热敏感、脆性或非均质多相复合型材料,获得高质量样品表面是特别好的解决方案,便于SEM分析和AFM检测。其特有的宽场离子束切割系统也非常适合EDS,WDS,Auger和EBSD分析。触屏控制,操作简单,无需特别技巧。
根据需求,灵活选择载物台,实现个性化配置。不仅是高通量实验室的理想设备,也适用于委托检测的实验室。
Leica EM TIC 3X徕卡三离子束切割仪-关键特征体现优势:
优质高效更便利
相比旧版速度提高一倍,制备质量更出色,可同时处理3 个样品 ,优质高效
优化的工作流程可安全、高效地将样品传输至后续的制备仪器或分析系统
制备样品高品质横切面和抛光表面,用于扫描电镜 (SEM)、微观结构分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研等分析检测
可在室温或冷冻条件下,实现样品表面高品质的处理,尽显样品内部真实组织结构
制备结果可复制,对高通量实验室更加便利
灵活配置个性化解决方案
根据实际需求,从灵活多样的载物台中进行个性化选配,满足高产量处理、委托检测等各种需求
特别适用于制备标准样品、高产量处理,及低温条件下制备热敏感的样品,如聚合物、橡胶或生物材料等
打造环境控制型工作流程
通过配套的 VCT 对接台接口,实现对易受环境影响和低温样品提供全流程控制,如地质材料、工业材料或生物材料等。这些样品将在惰性气体/真空/冷冻条件下,被安全传送到镀膜系统 EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系统
与 Leica EM TXP 协同效应成为标准工作流程
使用Leica EM TXP特有的标靶面抛光系统,对样品进行机械切割和抛光预制,为使用 Leica EM TIC 3X 仪器进行后续技术处理做好充分准备
对需要精准定位以及难以制备的样品,二者协同效应,能提供出色的结果且令处理变得轻松简单,成为标准工作流程
Leica EM TIC 3X徕卡三离子束切割仪技术参数:
可容纳最大样品尺寸50x50x10mm,可获得有效切割截面面积>4x1mm |
三把离子枪,离子束能量1keV-10keV,切割速率150μm/h (10keV,50μm切割高度) |
离子束处理过程中样品位置固定,无需偏转运动,无投影效应,热传导性好 |
可进行离子束切割或刻蚀,可选择任意离子枪 |
真空泵解耦合设计,无震动传导 |
触摸屏操作面板,直观、简易操作,可编程可软件升级 |
可选配:液氮制冷冷台-150°至 30°,25L液氮罐及自动泵,具有自动快速制冷功能 |
可选配:三样品台,可一次连续处理三个样品 |