Leica EM ACE600徕卡高真空镀膜仪-高分辨率分析的理想之选：
Leica EM ACE600徕卡高真空镀膜仪，适用于高分辨率TEM和FE-SEM分析。是全新一代ACE系列产品之一，是徕卡科学家合作研发的结晶，它涵盖了样品制备过程中所需的从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜的所有镀膜需求。可以配置成溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。根据FE-SEM和TEM应用的需要生产出特别薄的，细粒度的、导电的金属和碳涂层。电脑程序控制，一键操作，全自动完成抽真空、镀膜、放气等全过程。触摸屏控制，简单方便，快速可靠。
Leica EM ACE600徕卡高真空镀膜仪可升级为带有真空冷冻传输系统的冷冻镀膜仪，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。
Leica EM ACE600徕卡高真空镀膜仪-关键特征体现优势：
多种镀膜方式满足高分辨率分析所需
依据实际需要，自定义配置属于自己的镀膜体系，如：金属溅射， 碳丝蒸发，碳棒蒸发，电子束蒸发及辉光放电镀膜等多种镀膜方式可选，充分满足FE-SEM 和 TEM更高分辨率分析所需
将其与Leica EM VCT100（真空冷冻传输系统）配套，是实现无污染传输环境可控Cryo-SEM样品制备的理想解决方案
使用真空冷冻传输系统将室温镀膜机转换成为低温镀膜机，保证样本在低温下进行镀膜和传输
全自动化可获得重复性完美镀膜
电脑程序控制，触屏参数和协议设置，镀膜进程全自动化运行
集成的石英测量和自动化3轴载物台移动，确保制备出可重复性镀膜
更多细节带来舒适工作体验
高品质台式镀膜仪设计小巧紧凑，占地小，节省实验室空间
仪器的门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台等部件均可拆卸，非常容易清洗
直观的触摸屏一键式操作使仪器使用操作非常简便
| Leica EM ACE600徕卡高真空镀膜仪技术参数 |
| 可任选离子溅射模式，碳丝蒸发镀碳模式，碳棒（热阻）蒸发模式，
电子束蒸发模式，双溅射模式，溅射-碳丝模式，溅射-碳棒模式，溅
射-电子束模式，双电子束模式，可兼容EM VCT100冷冻传输系统，
可选辉光放电（用于网格表面亲水化） |
| 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 |
| 内置石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm |
| 全自动程序控制，自动完成抽真空、镀膜、放气等过程 |
| 触摸屏控制，简单方便 |
| 采用隔膜泵+涡轮分子泵，无油真空系统，真空度≤2x10-6mbar |
| 溅射电流：0-150mA可调 |
| 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：200mm（宽）x150mm（深）x195mm（高） |
| 样品台内置旋转，工作距离调节范围：30-100mm |
