催化湿法氧化技术（CWAO）是一种高效节能的新型处理技术，通过在反应过程中加入适宜的催化剂使常规氧化技术所需的反应温度和压力降低，有效提高氧化分解能力，加快反应速度，缩短反应所需时间，降低成本，具有高效和无二次污染等优点。该技术应用的重难点在于催化剂的选用，过渡金属具有较好的催化性能，但由于存在溶出问题导致容易造成二次污染以及催化剂活性降低；而贵金属具有高活性、高选择性的特点，且稀土金属表现出特殊氧化还原性，离子半径大，可形成具有特殊结构的复合氧化物，贵金属与稀土金属之间有较好的协同作用还能抑制金属离子的溶出，将稀土元素与贵金属结合制备催化剂有着优异的性能，贵金属作为催化剂的活性组分有其独特的优越性。
湿法制备氧化催化剂高速胶体磨性能特点
结合上海依肯胶体磨设备一种技术方案如下：
一种催化湿法氧化催化剂其组成包括下述载体和贵金属组分，该载体为钛与锆的复合氧化物，该贵金属为钌，其制备方法包括：
（1）配置前驱体溶液，分别将氯氧化锆和钛酸四丁酯溶于乙醇溶液，并不断搅拌；
（2）将步骤（1）中配置的氯氧化锆溶液缓慢加入至步骤（1）中配置的钛酸四丁酯溶液，通过上海依肯机械设备不断均匀搅拌分散研磨，至溶液粘稠呈胶状；
（3）将步骤（2）得到的胶状物放入烘箱90~130℃下进行干燥10~15小时，得到颗粒状物质；
（4）将步骤（3）得到的颗粒状物质进行研磨成粉状物质；
（5）将步骤（4）得到的粉状物质置于马弗炉在空气中焙烧，得到催化剂载体；
（6）采用过量浸渍法将贵金属盐加入至上述载体，室温搅拌分散3~4小时，再使用旋转蒸发仪进行旋蒸除去水分；
（7）将步骤（6）得到的催化剂载体放入烘箱90~130℃下进行干燥10~15小时，得到粉状物质；
（8）将步骤（7）得到的粉状物质放置于氢气还原炉中在氢气环境下焙烧还原，得到最终催化剂。
上海依肯IKN胶体磨
胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
CM2000系列胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。依肯公司另外一项独特的创新，就是锥体磨CMO2000系列，它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。
研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和最后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。
湿法制备氧化催化剂高速胶体磨技术参数
