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半导体设备RIE-200L等离子刻蚀机
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苏州华泽电子科技有限公司
中国 苏州
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产品属性
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品牌
其他
型号
RIE-200L刻蚀机
类型
其他
自动化程度
自动
适用行业
机械
清洗对象
其他
清洗速度
100
加工定制
非加工定制
清洗物尺寸
8寸mm
用水量
1t/h
压力
220MPa
功率
220kW
电源
500V/Hz
外形尺寸
1,5mm
重量
500kg
9mm
10mm
等离子去胶机清洗机适用于半导体IC领域。硅胶 塑胶聚合体领域。电子行业。印制线路板行业。表面清洁 表面活化 表面灰化 去胶 还原 刻蚀 去除表面有机物
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