PLUTO-WINETCH是面向科研及公司研发客户使用需求设计的ICP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性非常好。

产品特点：

● 4/6/8英寸兼容，单片晶圆真空传输系统

● 适合研发及小规模生产

● 设备结构简单，外形小

● 操作简便、便于自动控制、适合大面积基片刻蚀

● 优异的刻蚀均匀性，刻蚀速率快

●满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统

● 选择比高、各向异性高、刻蚀损伤小

● 断面轮廓可控性高，刻蚀表面平整光滑

技术参数：

晶圆尺寸：4/6/8英寸兼容

适用工艺：等离子体刻蚀

适用材料：SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy，etc.