PLUTO-WINETCH是面向科研及公司研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。

产品特点：

-刻蚀形貌好、工艺性能优越

-高选择比、高刻蚀速率

-低拥有成本和消耗成本

晶圆尺寸：6/8寸兼容

适用工艺：等离子体刻蚀

适用材料：SiO₂，Si₃N₄，etc.