荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列赫尔纳供应

荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列赫尔纳供应，由赫尔纳德国总部直接采购，近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型，为您提供一对一好的解决方案：货期稳定，快速报价，价格优，设有8大办事处提供相关售后服务。

公司简介：

SparkNano 开发和供应用于能源、OLED 和相关应用的空间原子层沉积设备。SparkNano 初成立于 2018 年，是 TNO（荷兰应用科学研究组织）的衍生公司。该公司的产品使其客户能够无缝地从实验室扩展到晶圆厂。除了高质量的设备外，经验丰富的团队还支持流程开发和优化，提供应用支持以及产量和性能管理。SparkNano 位于埃因霍温。

荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列产品介绍：

SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列专为片对片 （S2S） 应用量身定制，可在 0.5 x 0.5m 至 1.5 m 的基材上沉积。VELLUM系列是高通量、全自动空间原子层沉积解决方案。Vellum 系列专为超高通量片材应用而设计，可随时集成到您的全自动批量生产过程中。Vellum 系列可以处理刚性基材，如晶圆和玻璃板，也可以处理安装在载体上的灵活箔。

金属或聚合物箔、晶片、玻璃和多孔基材等基材。所有这些都旨在实现高达每分钟 20 个基板的实际生产吞吐量。与各种沉积材料和沉积温度相结合。系统的衬底流处理和在线集成设置将根据整体设置需要进行设计。

荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列优势特点：

Ø 大批量全自动衬底加载和卸载

Ø 衬底尺寸高达 500 mm x 500 mm

Ø 等离子体增强和热原子层沉积

Ø 支持多种前驱体和配方

Ø 无掩模图案沉积

Ø 大气 N2 和 Ar 惰性气体操作模式

荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列技术规格：

Ø 典型的沉积材料：IrO2，Ir，Pt，Al2 O3，TiO2，SiO2，SnO2，ZnO等等

Ø 加工温度：空间热原子层沉积 （ALD） 50°C - 250°C/等离子体增强空间原子层沉积 （ALD） 50°C - 200°C

Ø 生产力：模块化系统根据应用需求进行调整，需要多个沉积室以优化产量

Ø 系统尺寸：2 模块版本 6 米（宽）x 3 米（深）x 2.1 米（高）

荷兰SPARKNANO薄膜沉积Vellum系列主要应用：

薄膜沉积Vellum产品线是一个用于高通量的全自动空间原子层沉积的加工平台。