荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发体制LabLine 系列赫尔纳供应
荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发体制LabLine 系列赫尔纳供应，由赫尔纳德国总部直接采购，近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型，为您提供一对一好的解决方案：货期稳定，快速报价，价格优，设有8大办事处提供相关售后服务。
公司简介：
SparkNano 是一家高科技产品公司，致力于空间原子层沉积工具 (Spatial ALD) 的设计和商业化，重新定义了工业规模的纳米制造。
SparkNano 的 Spatial ALD 技术使其客户能够沉积薄的功能层，不仅提高性能并降低燃料电池、电池和太阳能电池的制造成本，而且还解决了与有效利用稀缺材料相关的供应链挑战
荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发体制LabLine 系列产品介绍：
SparkNano 的 LabLine 系列提供行业的空间原子层沉积 （S-ALD） 系统，将薄膜质量与快的沉积速度和无与伦比的灵活性相结合。这些先进的系统旨在支持广泛的 S-ALD 工艺并适应各种基板类型，使其成为研发、工艺开发、产品开发甚至试产线生产的理想解决方案。
此外，LabLine 系统具有完全可扩展性，弥合了实验室研究和全面生产之间的差距，确保顺利无缝地过渡到商业生产。LabLine 系统由几个关键组件组成，每个组件都旨在为各种 S-ALD 应用提供高性能和灵活性。这些组件可以根据特定的工艺要求进行定制或升级，确保系统适应您不断变化的需求。
荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发体制LabLine 系列优势特点：
Ø 高速处理：在不到 10 分钟的时间内在硅晶片上实现高达 50 nm 的 Al₂O₃沉积，大大缩短了加工时间。
Ø 大型基板能力：支持大 420 mm x 300 mm 的基板，可提供定制尺寸，为各种应用提供出色的可扩展性和灵活性。
Ø 等离子体增强的灵活性：能够在聚合物等温度敏感材料上沉积，扩大了可加工的材料范围。
Ø 前驱体效率和成本降低：大的前驱体效率，加上回收未反应的前驱体的能力，显著减少了材料浪费和运营成本。
荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发体制LabLine 系列主要规格：
Ø 基材类型：平面和多孔基板，包括晶圆、玻璃、金属和聚合物箔
Ø 沉积温度：热 S-ALD 50°C – 250°C/等离子体增强 S-ALD 50°C – 200°C
Ø 前驱体和共反应物：前驱体：标准设置，多具有四个前驱体连接。共反应物：H₂O（标准）、等离子体（可选 O₃、H₂、O₂）（可根据要求提供其他前驱体和共反应物。
Ø 基板加载：手动，通过两个前厅（一个小，一个大）
Ø 免费样品区：大 420 毫米 x 300 毫米
Ø 系统尺寸：4.0 米（宽）x 3.6 米（深）x 2.1 米（高）
