OTSUKA大塚电子 高速相位差测量装置RE-200 日本原装

OTSUKA大塚电子 高速相位差测量装置RE-200 日本原装

品牌型号与产品概述

OTSUKA 大塚电子源自日本，在偏振光学检测领域拥有长期技术积累，RE-200 是面向量产质控、在线检测场景开发的高速相位差设备，整机原装出品。它区别于光谱型 RETS-100nx，采用固定波长单色检测方案，依靠光子偏振元件与 CCD 相机一次性捕捉偏振光强图谱，不需要电机旋转偏振片，机械结构简单，长期连续运行稳定性更优。设备主打低相位差、低残留 retardation 样品评价，兼顾实验室离线抽检与涂布、拉伸产线在线嵌入检测，适合偏光保护膜、补偿膜、光学树脂板材、玻璃畸变等各向异性透光材料批量检测，为显示光学薄膜产线提供高速稳定的相位差质控方案。

规格参数详情

RE-200 标准测量波长 550nm，也可按需选择其他波长；相位差测量范围 0nm～1μm。测量光斑为 2.2mm×2.2mm 方形光斑，样品适配尺寸 10×10mm～100×100mm。主轴方位角重复精度 3σ≤0.05°，单点测量时间≤0.1 秒。光源可选 LED 光源或者 100W 卤素光源，标配垂直入射模式，选配倾斜旋转载台后可完成多角度采集，解析厚度方向相位差 Rth 与三维折射率。整机外形尺寸 300 (W)×430 (D)×560 (H) mm，重量约 20kg，供电 AC100V，配套软件可输出相位差、主轴角度、椭圆率等参数，支持数据连续输出对接产线 PLC。

核心功能特点

这款相位差装置最大亮点是无旋转驱动偏振机构，依靠一次性 CCD 成像采集偏振信号，不存在电机磨损、角度漂移问题，长时间产线连续运行重复性稳定，维护工作量低。支持 0nm 起测，针对低残留相位差薄膜、几乎无延迟的基材也可以精准检出，适合光学保护膜、低双折射基材品质管控。高速检测能力可以跟上薄膜产线走带速度，既可以台式单点抽检，也可作为检测头嵌入产线。整机结构紧凑，占用空间小，安装方式灵活。软件操作简单，测量项目少，学习门槛低，可自动保存时序数据，适合长时间连续监测，搭配倾斜载台后拓展三维光学参数评价能力，一机兼顾研发评价与量产质控需求。

适用领域用途

RE-200 主要面向显示光学薄膜、各向异性透光材料的相位差检测。在 LCD、OLED 产业链，用于低延迟保护膜、视角补偿膜、偏光配套薄膜来料检验、产线在线监测；光学行业用于光学树脂板、玻璃基板的应力畸变、双折射检测；高分子材料领域用于拉伸薄膜、挤出薄膜的取向双折射批量筛查。也适合高校科研中低双折射材料的快速评价。相比光谱型设备，它更适合固定波长、大批量、高频次的质控场景，优先满足产线在线连续监测、多批次样品快速比对需求。