日本ORC，光源用设备，半导体制造设备；

素子に紫外線を照射して、電荷を放出させることが出来ます。半導体、特にフラッシュメモリの製造工程において良好な素子特性を得て、歩留まりの向上と信頼性の向上には、欠かすことの出来ない装置です。

特　徴：

1. フラッシュメモリ、マイコンのVth特性の回復とリテンション特性の改善に有効です。

2. EP-ROM等不揮発性メモリでは、データの消去にも有効です。

3. 半導体デバイスのトランジスタ特性の改善と安定化にも有効です。

4. 対象ウエーハはΦ5in～Φ300mmまでカバーする、SEMI規格に準拠した構造です。

5. 100℃～150℃の低温プロセスです。

型号：VUS-3300，VUM-3500，VUM-3434，VUM-3460。