概述
Edwards
STP603 是新型的涡轮分子泵，可用于最先进的半导体应用。Edwards的转子技术可实现一流的性能，的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。
应用
- 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
- 电子回旋共振(ECR)刻蚀
- 薄膜沉积CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
- 溅射
- 离子注入源，射束线泵送端点站
- MBE
- 扩散
- 光致抗蚀剂脱模
- 晶体/晶膜生长
- 晶片检查
- 负载锁真空腔
- 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
- 高能物理：射束线、加速器
- 放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
先进的转子技术
先进的控制器设计
紧凑型设计
技术数据入口法兰 | ISO160F |
出口 | KF40 |
抽速 | |
N2 | 650 ls-1 |
H2 | 550 ls-1 |
压缩比 | |
N2 | >108 |
H2 | >105 |
加热时的极限压力（VG/ISO法兰） | 6.5 x 10-6Pa (5 x 10-8Torr) |
加热时的极限压力（ICF法兰） | 10-7Pa (10-9Torr) |
连续出口压力 | 13 Pa (0.1 Torr) |
额定速度 | 35000 rpm |
启动时间 | 6分钟 |
最高入口法兰温度 | 120 °C |
输入电压 | 100至120 (± 10) V交流或 |
| | 200至240 (± 10) V交流 |
启动时的功耗 | 0.8 kVA |
泵重量 | 31 kg |
控制器重量 | 9 kg |
