Edwards STPA803C涡轮分子泵是为半导体应用而设计的。Edwards的先进转子技术可实现一流的性能和的制程灵活性。STPA803C已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。
应用
- 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
- 电子回旋共振(ECR)刻蚀
- 薄膜沉积CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
- 溅射
- 离子注入源，射束线泵送端点站
- MBE
- 扩散
- 光致抗蚀剂脱模
- 晶体/晶膜生长
- 晶片检查
- 负载锁真空腔
- 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
- 高能物理：射束线、加速器
- 放射线应用：融合系统、回旋
功能和优势
先进的转子技术
- 的制程灵活性
- 无油
- 低振动
- 高度可靠
- 免维护
- 可用于严苛制程
- 使用寿命延长
先进的控制器设计
紧凑型设计
技术数据入口法兰 | ISO160F |
出口 | KF40 |
吹扫口 | KF10 |
水冷却接头 | PT1/4 |
抽速 | |
N2 | 800 ls-1 |
H2 | 520 ls-1 |
压缩比 | |
N2 | >108 |
H2 | 103 |
加热时的极限压力 | 10-7Pa (10-9Torr) |
连续出口压力 | 270 Pa (2 Torr) |
氮气吞吐量 | 1500 sccm |
额定速度 | 32500 rpm |
启动时间 | 7分钟 |
最高入口法兰温度 | 120 °C |
输入电压 | 200至240 (± 10) V交流 |
功耗 | 0.85 kVA |
泵重量 | 39 kg |
控制器重量 | 9 kg |
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