刻蚀用负性光刻胶
刻蚀用负性光刻胶 |
离子刻蚀光刻胶 耐高温 | 光刻胶型号 NR71-250P NR71-1000P NR71-1500P NR71-3000P NR71-6000P NR5-8000 | 厚度范围 0.2µm - 0.6µm 0.7µm - 2.1µm 1.1µm - 3.1µm 2.1µm - 6.3µm 5.0µm - 12.2µm 5.8µm - 100µm | 耐温150度(℃). 光刻胶在离子刻蚀方面有很好的选择性,在一些条件下优于常用的正胶25%~30%. 对于小于120度(℃)的制程,NR5和NR71可在25度(℃)去胶. |
| 湿法刻蚀光刻胶 粘附性好 | 光刻胶型号 NR9-250P NR9-1000P NR9-1500P NR9-3000P NR9-6000P NR9-8000P | 厚度范围 0.2µm - 0.6µm 0.7µm - 2.1µm 1.1µm - 3.1µm 2.1µm - 6.3µm 5.0µm - 12.2µm 6.0µm - 100.0µm | 温度在100度(℃)时, NR9系列光刻胶有很好的粘附性,且易于在25度(℃)去胶. |
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应用
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能够在离子刻蚀和湿法刻蚀中替代正性光刻胶
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特性
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厚度范围: <0.1 - 120.0 µm
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对小于380nm的波长有很好的灵敏度
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优势
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良好的线宽控制
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侧背的垂直度不随膜厚而变
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单次旋涂可达到100微米膜厚
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采用150度烘烤,节省了烘培时间(取决于膜后)
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良好的光刻速度,提高了曝光效率
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增加功率密度,促进了离子刻蚀效率
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无需使用增粘剂