美国丹顿真空设备有限公司是世界真空镀膜设备制造商，成立于1964年。丹顿是美国军方签约的设备供应商，为美国军品研发和制造提供真空镀膜设备。作为美国老牌“军工”企业，丹顿真空以设备的实用性和可靠性见长。目前，丹顿真空已为全球客户设计制造了总数超过5千台的各种规格的电阻/电子束蒸发、磁控溅射、离子束溅射/刻蚀和等离子体化学气相沉积镀膜系统，产品广泛应用于科研开发、小规模制造和工业生产等领域。

Desktop Pro提供了一种高性能，小巧，实惠的磁控溅射系统。

※  节省空间：Desktop Pro只需要不到36英寸的空间（0.9m）

※  节省费用：一个电源可以驱动两个靶枪

※  均匀性好：倾斜的靶枪和旋转工件盘使得在整个工件盘上达到5%的镀膜均匀性

※  抽真空速度快：抽速65lps的涡轮分子泵，保证系统优秀的抽真空性能和对反应气体的负载能力

※  可操作性：强大的控制系统基于PLC的触摸屏控制系统提供下列操作模式：维修模式，手动操作模式和半自动操作模式

※  安全设计：互锁保护避免不适当操作对人员和设备的损害

※ 
标准配置两个直径2英寸的溅射靶材

※  可以处理最大直径为4英寸的工件

※  直流溅射，射频溅射

※  共溅射

※  工艺气体

※  触摸屏控制

※  磁控溅射

※  材料研究

※  产品质量控制和分析

※  半导体失效分析

※  纳米技术

※  复合半导体