张家港晋宇达电子科技有限公司客户主要分布在北京，上海，苏州，无锡，绍兴，深圳，东莞，厦门，福州，西安等地区。

扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。

      晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。

光刻注意事项给出如下：

前烘

　　前烘的目的是去除胶模中的绝大部分溶剂，增强胶模的光敏性。还可以改善胶模的均匀性和黏附性。前烘温度不高，一般为100℃左右。

      晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。我公司的客户主要分布在北京，上海，苏州，无锡，绍兴，深圳，东莞，厦门，福州，西安等地区。

      高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。