一、设备概况
设备名称：RCA湿法腐蚀清洗机
整机尺寸：具体尺寸根据实际图纸确定
二、使用对象
硅晶片2-12inch
三、适用领域
半导体、太阳能、液晶、MEMS等
四、设备用途
硅晶片化学腐蚀和清洗的设备
五、设备包括
设备主体、电气控制部分、化学工艺槽、纯水清洗槽等；并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。
六、主体构造特点
1、设备为半敞开式，主体使用进口WPP15和10mm厚板材，结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境，坚固耐用，双层防漏，机台底盘采用德国产瓷白PP板，热焊接而成，可长期工作在酸碱腐蚀环境中
2、主体：设备为半敞开式，主体使用进口WPP15和10mm厚板材，结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境，坚固耐用，双层防漏，机台底盘采用德国产瓷白PP板，热焊接而成，可长期工作在酸碱腐蚀环境中；
3、骨架：钢骨架+PP德国劳施领板组合而成，防止外壳锈蚀。
4、储物区：位于工作台面左侧，约280mm宽，储物区地板有漏液孔和底部支撑；
5、安全门：前侧下开透明安全门，脚踏控制；
6、工艺槽：模组化设计，腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成，杜绝机台的渗漏危险；
7、管路系统：位于设备下部，所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明；药液管路采用PFA管，纯水管路采用白色NPP喷淋管，化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过专用管道排放；
8、电气保护：电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区，电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠；所有可能与酸雾接触的电气及线路均经PFA防腐隔绝处理，电气柜CDA/N2充气保护其中的电器控制元件；
9、排风：后部排风和下沉式设计，风量可调节，对操作员有安全保护；
10、送风：设备顶部有FFU百级净化送风装置，设备沿前侧板镶嵌入墙体，保证后上部送风；
11、照明：工作区顶部配有双光日光灯照明；
12、水汽枪：机台前部配备有PTFE纯水枪和PTFE氮气枪各1只置于右侧，方便操作员手工清洗槽体或工件；
13、机台支脚：有滑轮装置及固定装置，并且有高低调整及锁定功能。
14、安全保障：完善的报警和保护设计，排风压力、液位、排液均有硬件或软件互锁，直观的操作界面，清晰的信息提示，保障了生产、工艺控制和安全性三色警示灯置于机台上方明显处。