炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。真空镀膜设备根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。而它的薄膜监控方式有多种，下面就和我们一起来看看真空镀膜设备的一些主要监控方式吧。

一、定值监控法。此办法使用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为中止镀膜点。

二、目视监控。使用双眼监控，因为薄膜在成长的过程中，因为干涉现象会有色彩改变，我们即是依据色彩改变来操控膜厚度的，此种办法有必定的差错，所以不是很好，需求依托经历。

装饰性真空镀的涂层一般分为底涂层和面涂层两种，它们主要起提高膜层的结合力，降低镀件表面的粗糙度，提高光亮度，保护金属膜层的作用。今天我们就先来看看真空镀膜设备对底涂层有何要求。

对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。