BRTHRPER-651A银纳米线光阻剂用于制造20-50um线宽线距L/S透明电容图型;具有在玻璃基材、柔性基材或显示器表面涂布透明导电膜的特性。光刻电容图型线条精度高,方块电阻在30-100Ω/□范围可选,CD Loss低于1um。同时具有优良的耐酸耐碱,耐UV等性能;
性能特点外观:银灰色低粘度液体粘度:3-5cp固含量:1.0-2.0%;乙酸丁酯、PMA、DBE混合溶剂成膜特性:透光率高,Pattern精度高,显影固化后导电率均匀参考工艺
涂布 | GAP值225、泵速3.2rpm/min;车速5-10M/min |
前烘条件 | 40℃、60℃、80℃、110℃、80℃/5min |
曝光 | 150-300mj/cm^ |
显影 | (AMPHBAL-2001b)KOH型0.045%/20-50s |
后烘 | PET:150℃/30min;Glass:150-230℃/30min |
指标及参数
序号 | 项目名称 | 指标 | 参考标准 |
1 | 粘度值 | 3cp | 旋转粘度计(0#) |
2 | 固含量 | 1-2% | 热蒸发 |
3 | 透光率 | 90.5 | 透过率雾度仪 |
4 | 雾度 | 3.5 | 透过率雾度仪 |
5 | 方块导电率 | 30-100Ω/□ | 四探针仪 |
包装及贮存
包装: 3.8L洁净加仑桶,加不透光包装袋;使用前振动均匀后加200目尼龙筛网泵吸上料贮存:AB组分液紧盖封口,于通风、阴凉、干燥处储存;贮运中避免日晒、雨淋、泄露.保质期:3个月 AB组分混合后在24小时内使用完