(图4)镀金进行的实验，证明对于相同的阻氓脉冲镀金只需要约为常规宜流镀金的一半的厚度。用这个研究来估价脉冲镀的金属化陶瓷上的镀金的阻率的影吨图4所示结果表明脉冲镀的厚度对阻率的改进。一个o．01欧姆／匣胖的试样，在常规镀冰需要约3．1微米的镀金层，而一个相同阻率的脉冲镀金层只要1．7微米抚行了。固3典型的集成版可看到镀的导通道是高度稠密叭它要求有低的阻串或很致密的沉积层6S—m3图4在镀金的陶瓷底板jJ用四点试探吸测得的阻率曲线。本工作的重要贡献是确定镀金时的脉冲时间条件。所得的数据表明：周期时间和流的适当的搭配即使沉积速度不高至少与常规镀所得到的相等。使用本文所述的源的情况最好的结果是lo一历毫秒的流接通时间和l16毫秒的断掉时间。如流增加时，流接适时间可以减少然而断掉时间不能再减久因为溶液必需有个恢复到平掏的时间。安培·分钟也是个因克从而我们能考虑到用100安培，全部时间为1分钟相当予用10安镀10分钟的脉冲镀速率。我们发现增加溶液的金属含量也能用较高的流密度更进一步地增加沉积率。增加浓度的研究已证实历使用的磷盐镀金溶液的沉积速率可通过增加金屈含量(8．2至／33克／升(1—4英国金衡制晒／加仑))成倍地增长。最佳浓度则要看镀槽液的其他因素的变化而定。值得注意的是脉冲镀不需要添加剂而

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