SENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）。

反应离子刻蚀系统Etchlab200是经济型基础等离子刻蚀机，适用于研发、和小批量产客户的干法刻蚀应用。采用模块化设计，可按照用户需求升级其真空系统、真空锁和供气系统以适应复杂应用。Etchlab 200模块化设计，直接装载晶圆，使其对任何工艺都操作简单、灵活运用。基本配置的典型应用有刻蚀电介质膜(SiO2, Si3N4), 半导体(Si), 聚合物和金属材料(Au, Pt, Ti, Ni)等。

l  经济型等离子刻蚀设备

l  最大 8" 晶圆和晶圆托架

l  可升级预真空锁LoadLock

l  可升级涡轮泵

l  SENTECH控制软件

l  预真空锁LoadLock

l  更大真空系统，包含涡轮泵。

l  循环冷却器,

l  反应腔加热系统,

l  新增防蚀气体、腐蚀性气体气路。

l  刻蚀深度、终点探测系统,

l  光学等离子体发射监测仪