德国SENTECH反应离子刻蚀系统-SI 591
深圳市金海睿智能科技有限公司
中国 深圳
产品属性
图文详情
品牌推荐
品牌
奥地利EVG
型号
SI 591
类型
反应离子刻蚀系统
加工定制
是
用途
反应离子刻蚀系统Etchlab200是经济型基础等离子刻蚀机，适用于研发、和小批量产客户的干法刻蚀应用
电源
400V/Hz
功率
3 x 400 V ac 50 Hz, 16 AW
外形尺寸
550 x 595 x 600 mm
重量
1kg
晶片尺寸
4~8"
线圈
平行板式反应线圈
电极温控
5ºC ~ 80ºC
反应腔本底真空
优于10-5 mbar
RF电源
13.56 MHz
反应离子刻蚀系统
