PVA TePla 微波等离子体去胶机
——PVA TePla 德国上市企业，跨国公司，40年等离子体设备经验，世界首台微波等离子体设备制造商
PVA-TePla微波等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，去胶均匀。
IoN Wave 10 等离子体去胶机是PVA TePla 在微波等离子体处理工艺中的最新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适用、性能先进。
其使用最新的、性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。其工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制。
型号：IoN Wave 10 ( PS 210 升级版 )、PS系列
典型应用：
去除光刻胶 Photo-resist stripping
去除残胶 Wafer descum
晶圆和衬底的清洁 Wafer and substrate cleaning
su-8灰化 Su-8 ashing
氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 Etching of silicon nitride, pi, etc.
刻蚀钝化层 Etching of passivation layers
逆向分析/失效分析中的器件开封 Device decapsulation for failure analysis
微量分析中低温材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysis
过滤器和薄膜的清洁 Cleaning of filters and membranes
规格参数：
2.45GHz风冷微波电源（0～600w可调），
石英或陶瓷腔体，
最多6路气体，MFC控制
兼容8英寸及以下晶圆
PC工控机控制，运行数据实时存储
操作分级权限管理
图形化触控屏操作，运行状态实时显示
可选配法拉第桶
可选配温控装置
可选配压力控制系统
外形尺寸：775×749×781 mm
认证：
CE 认证
EN 61010
EN 61326
Semi E95
ISO 9001
CISPR 55011
