PVA TePla 射频等离子体去胶机
——PVA TePla 跨国型企业,40年等离子体设备经验
PVA-TePla 射频等离子体去胶机(整机进口),性能稳定,均匀性好。
型号:IoN 40 ( M4L 升级版 )
典型应用:
去除光刻胶
Photo-resist Stripping
表面精密清洁
Surface Precision Cleaning
表面活化
Surface Modification
提高表面粘合性
Bond Strength Enhancements
改变表面亲水性/疏水性
Hydrophilic/Hydrophobic
分子接枝
Molecular Grafting
涂层
Plasma Deposited Coatings
规格参数:
腔体材质:铝
13.56MHz 风冷微波电源(0~600w可调,可选配0~300W),
自动匹配
铝制腔体,多层水平可抽卸托盘
模块化设计,可更换水冷极板,垂直极板,料盒极板
多至6路气体,MFC控制
兼容8英寸及以下晶圆
PC工控机控制,运行数据自动存储,分级密码权限管理
图形化可视控制界面
可选配温控板
可选配法拉第桶
可选配压力控制系统
外形尺寸:775×723×781 mm
认证:
CE 认证
EN 61010
EN 61326
Semi E95
ISO 9001
CISPR 55011