IoN 系列低压等离子体——PVA TePla公司整机进口
——PVA TePla 跨国型企业，40年等离子体设备经验
IoN 系列低压等离子设备，是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。其等离子体技术凭借多功能性、绿色环保的特点，逐渐成为生命科学、电子和工业领域中对材料表面改性的首选技术。如满足生物相容性的表面纳米级别的化学结构修饰等。
IoN 系列产品在满足大批量生产的需求外，着重设备的多功能性及精细工艺的可控性。具有先进的工业控制系统、失效警报系统、数据采集系统。
同时设备采用模块化设计，紧凑型结构，集成度高。
技术参数：
腔体材质：铝（标配），可选石英/不锈钢
腔体容积：100L/ 40L，可定制
水平极板/垂直极板/悬挂极板
工艺气体：MFC控制，最多6路，可选配液态单体装置
射频电源：风冷 13.56MHz/ 100KHz， 0～600W（标配），可选0～300W/ 0~1000W
高灵敏快速自动匹配功能
PC工控机控制，数据自动存储，分级操作权限
图形化用户界面，运行状态实时图形化显示
中英韩日法多种语言任意切换
可选配压力控制系统
可选配温控系统
可选配法拉第屏蔽网
主要应用：
等离子聚合处理Deposition of plasma polymers（具有更长有效时间）
表面活化 surface modification
提高表面粘合性 bond strength enhancements
改变表面亲水性/疏水性 hydrophilic/hydrophobic
分子接枝 molecular grafting
dna/蛋白质微阵列修饰 surface modification of dna and protein microarrays
涂层 plasma deposited coatings（特氟龙PTFE/SiO2涂层SiO2-like/金刚石涂层Diamond-like/聚乙二醇PEG/甲基丙烯酸羟乙酯HEMA/氨基-NH2/羧基-COOH/羟基-OH/环氧化物-Epoxide）
表面精密清洁surface precision cleaning
认证：
CE 认证
EN 61010
EN 61326
FDA CFR 21-11
USP Class VI
ISO 9001:2000
CISPR 55011
