如何保证高厚径比,小孔径的导通性
当导通孔直径越来越小,厚径比越来越高时,要保证孔中的金属覆盖良好变得更加困难。而保证孔中金属的均匀一致性,保护孔中金属在图形电镀及以后的掩膜及蚀刻过程中不被蚀刻掉,也变得极具挑战性。本文列出了导致通孔铜层空洞的许多诱因,并对如何识别根本问题加以讨轮,对生产工艺提出一些建议以避免这些问题。
通孔中导电层空洞因不同原因引起,表现出不同特征,但有一点是共同的,即孔中导电层的金属覆盖不充分或没有金属覆盖。从理论上讲,该问题由两种情况引起:沉积的金属不足,或在充分足量的金属沉积后,又因某种原因,失掉部分金属。不充分的金属沉积可能是由于电镀参数不当引起,如槽液的化学组成,阴极移动,电流,电流密度分布,或电镀时间等等。这也可能是因为孔壁表面有异物妨碍金属沉积造成,如气泡,灰尘,棉质纤维或有机膜,粘污等。若孔壁表面未经适当处理,不利于镀液沉积,也有可能导致金属沉积不好,例如:钻孔粗糙,形成裂纹,或有“粉红圈”。
从通孔中将铜:吃掉“有可能是化学因素,如蚀刻造成,也可能是机构原因,如胀孔(blow-holing),应力裂纹或沉积层脱落。







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