MgO 氧化镁靶材

溅射靶材是一种通过溅射法生成薄膜的材料，由金属及陶瓷加工制造而成。

我们通过将熔化技术，烧结技术，合成技术以及加工技术进行技术融合，可以对各种素材，纯度以及形状的产品进行处理。

MgO是下一代HDD介质的模板层，TMR磁头以及磁性存储器（如MRAM）中不可缺少的功能性材料。
早在2002年，我们就开始开发和生产适合TMR元件的溅射靶，并一直提供具有“高纯度”、“高密度”和“低颗粒”特征的MgO靶材。

MgO靶材・镜面研磨品

基于我们多年来在溅射靶及其键合方面所取得的技术，我们能够制造出满足任何要求的背板。我们的背板(接合靶材所使用的背板)可根据客户的用途，对以无氧铜为首的各种铜合金，铁，不锈钢，铝，铝合金，钼以及钛进行严格的筛选。此外，我们还将万全地处理上述材料的组合，并考虑到客户使用上的便利性，提出建议进行改善。