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日本高纯度二氧化硅靶材SiO2溅射靶材
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上海锡霖国际贸易有限公司
中国 上海
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品牌/厂家
日本高纯度
牌号
SiO2
材质类型
非金属相复合靶材
材料名称
二氧化硅
规格
SiO2
形状
定制
用途
溅射靶材
制备工艺
熔化 烧结 合成
成份
二氧化硅
纯度
4N 6N
尺寸
定制
溅射靶材
溅射靶材是一种通过溅射法生成薄膜的材料,由金属及陶瓷加工制造而成。
我们通过将熔化技术,烧结技术,合成技术以及加工技术进行技术融合,可以对各种素材,纯度以及形状的产品进行处理。
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