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日本高纯度二氧化硅靶材SiO2溅射靶材
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产品属性
图文详情
品牌推荐
品牌/厂家
日本高纯度
牌号
SiO2
材质类型
非金属相复合靶材
材料名称
二氧化硅
规格
SiO2
形状
定制
用途
溅射靶材
制备工艺
熔化 烧结 合成
成份
二氧化硅
纯度
4N 6N
尺寸
定制
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