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日本高纯度二氧化硅SiO2靶材 4N 6N
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产品属性
图文详情
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品牌/厂家
日本高纯度化学研究所
牌号
SiO2靶材
材质类型
无机化合物靶材
材料名称
SiO2
规格
可定制
形状
可定制
用途
薄膜材料
制备工艺
熔化技术,烧结技术,合成技术
成份
100%
原料辅料、初加工材料 > 喷涂溅射材料 > 溅射沉积靶材 >
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