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日本高纯度碲化锗靶材GeTe溅射靶材
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产品属性
图文详情
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品牌/厂家
日本高纯度化学研究所
牌号
GeTe
材质类型
化合物靶材
材料名称
碲化锗靶材
规格
GeTe
形状
可定制
用途
薄膜材料
制备工艺
熔化技术,烧结技术,合成技术
成份
GeTe
纯度
根据客户需求
交期
8周
成分
可定制
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