4英寸氮化硅片 单抛 光电子科研实验专用
产品名称 | 氮化硅片 SI3N4 |
尺寸 | 3英寸,4英寸 |
生长方式 | LPCVD.PECVD |
定制 | 40nm,50nm,150nm,200nm.可带加工 |
特征 | 卓越,品质外观精美的氮化硅片,均匀性好 |
网站 | www.shikhruida.cn 联系方式:18600211078 |
用途:在微电子和光电子材料及器件的研究和生产领域,氮化硅已然成为一种重要的薄膜材料。随着超大规模集成电路的发展,集成度、复杂性和封装要求的不断提高,氮化硅作为钝化膜、绝缘层、扩散掩膜应用越来越广泛。研究发现,硅中的氮能够提高硅单晶的强度,防止硅片翘曲,并能抑制微缺陷形成。